半導體設備;清洗設備;半導體清洗設備;石英管清洗機;臺面腐蝕機;顯影機;晶片清洗機;爐前清洗機;硅片腐蝕機;硅片清洗機;手動清洗臺;通風櫥;化學試驗臺;超聲波清洗機;整流器;硅片花籃;滾筒;化學儲罐;儲槽;太陽能電池清洗設備，半導體清洗設備，微電子工藝設備及清洗設備;太陽能電池片清洗刻蝕設備;微電子半導體清洗刻蝕設備;LCD液晶玻璃基板清洗刻蝕設備；LED晶片清洗腐蝕設備;硅片切片后清洗設備;劃片后清洗設備;太陽能電池制絨酸洗設備;硅晶圓片清洗甩干機;電鍍設備；工程塑料加工
供應半導體分立器件RCA硅晶圓片濕法刻蝕清洗機
本設備適用于去除硅晶圓片工件表面的油污及其他有機物、除膠、去金屬離子等。設備由清洗槽部分、伺服系統及機械臂部分、層流凈化系統、電氣控制系統、機架及整機部分組成。 .清洗槽部分由有機溶劑槽、去離子水槽、酸槽或堿槽等組成。 .關鍵件采用進口件，包括氣動閥，PFA管道，全氟循環系統，保證工作介質（酸、堿）的潔凈度，避免雜質析出。 .工藝過程全自動，機械手在槽間的轉換由兩套伺服系統控制，可存儲多條工藝時序，方便使用。 人機界面為觸摸屏，方便直觀。 .除裝片和取片需人工外，其余工藝動作均可自動完成，適用于微電子半導體、LED、太陽能電池等行業，也適合于高校化學實驗室作實驗設備。
本設備適用于去除硅晶圓片工件表面的油污及其他有機物、除膠、去金屬離子等。設備由清洗槽部分、伺服系統及機械臂部分、層流凈化系統、電氣控制系統、機架及整機部分組成。 .清洗槽部分由有機溶劑槽、去離子水槽、酸槽或堿槽等組成。 .關鍵件采用進口件，包括氣動閥，PFA管道，全氟循環系統，保證工作介質（酸、堿）的潔凈度，避免雜質析出。 .工藝過程全自動，機械手在槽間的轉換由兩套伺服系統控制，可存儲多條工藝時序，方便使用。 人機界面為觸摸屏，方便直觀。 .除裝片和取片需人工外，其余工藝動作均可自動完成，適用于微電子半導體、LED、太陽能電池等行業，也適合于高校化學實驗室作實驗設備。
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