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氮氣真空烤箱的主要技術指標
點擊次數：70 發布時間：2025-6-5
一、用途簡介：
真空充氮烤箱適用于光電、硅晶片、電子芯片、電池、線路板、電子電器、金屬加工、制藥等各行業作無氧真空快速干燥、退火等高溫處理，可充惰性氣體防止產品氧化。深受生產線、實驗室及科研單位喜愛。
二、主要技術指標：
規格型號： HE-WDN2-72 HE- WDN2-64 HE- WDN2-125 HE- WDN2-216 HE- WDN2-512 HE- WDN2-1000
內箱尺寸(cm)： 30×30×30 40×40×40 50×50×50 60×60×60 80×80×80 100×100×100
外形尺寸(cm)： 70×55×125 70×66×145 78×77×155 90×86×165 115×108×185 136×166×188
總功率： 3.5KW 4.5KW 5.5KW 9.0KW 15.0KW 20.0KW
使用電源： AC 單相 三線 220V 50HZ AC 三相 五線 380V 50HZ
溫度偏差： ±3% ±5% ±8%
真空泵： 4升 8升
溫度范圍(選擇)：
□ RT+10℃～200℃
□ RT+10℃～250℃
□ RT+20℃～300℃
真空度范圍： 0～-100KPa
控制方式： 按鍵式控制或PLC觸摸屏控制
結構： 一體式結構（內置真空泵）或分體式（外置真空泵）
內箱材質： SUS304#不銹鋼
外箱材質： SECC鋼板高級烤漆處理
充氮氣裝置： 1）氮氣壓力范圍：3～4Kg左右；
2）流量計：量程為10L/min-100Lmin；
3）氣管配置：∮8mm氣管快插口；
4）充氮控制方式：采用時間自動控制或手動控制；
5）排氣閥：充氮氣的同時打開排氣閥，防止箱內高壓；
6）氮氣：氮氣源用戶自備。