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擴散氧化退火爐是一種用于半導體器件制造的設備，其主要作用是在高溫下進行氧化和退火等處理，以改善半導體器件的性能。

在擴散氧化退火爐中，半導體器件通過輸送系統進入爐體中，在高溫和特定氣氛下進行處理。這些處理包括氧化、退火、摻雜等多個過程，可以改善半導體器件的性能和可靠性。

二、 爐體中的鎢絲

爐體中的鎢絲是擴散氧化退火爐的一個關鍵組成部分。在進行高溫處理時，鎢絲作為熱源，提供必要的能量以確保處理溫度的均勻性和一致性。

此外，鎢絲還可以起到調控氣氛的作用。在處理過程中，通過控制氣氛中的成分和壓力，可以對處理過程進行精確的控制和調整。鎢絲作為爐體中的一個組成部分，需要具備良好的耐高溫性和穩定性，以確保處理的精度和可靠性。

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