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箱式氣氛爐適用于金屬，納米，單晶硅，多晶硅，電池等的擴散焊接，氣氛熱處理的加熱設備用于材料或化學實驗室，在氣氛狀態下燒結各種新材料樣品。

箱式氣氛爐以硅碳棒為加熱元件，采用雙層殼體結構和程序控溫系統，移相觸發、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風冷系統，能快速升降溫，采用外殼整體密封、蓋板密封采用硅膠泥、爐門采用硅膠墊并通有水冷系統，氣體經過流量計后由后膛進出，有多處洗爐膛進氣口、出氣口處有燃燒嘴，可以通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳、氨分解氣等氣體。

箱式氣氛爐適用于金屬材料的擴散焊接以及真空或保護氣氛下熱處理。還可用于材料試驗、合成、燒結等;陶瓷材料、粉體材料、金屬陶瓷的真空燒結。