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箱式高溫馬弗爐因其高溫性能、溫度均勻性和控溫精度，廣泛應用于材料科學、化學分析、工業生產等領域。以下是其主要適用的實驗類型及具體應用場景：

一、材料合成與制備

陶瓷材料燒結

應用場景：氧化鋁陶瓷、氮化硅陶瓷、氧化鋯陶瓷等高溫燒結。

需求：高溫（1600℃～1800℃）、長時間恒溫（數小時至數十小時），確保陶瓷致密化與性能穩定。

優勢：溫度均勻性（±5℃以內）避免局部過熱導致裂紋或性能不均。

金屬與合金熱處理

應用場景：鋼的淬火、退火、時效處理；鈦合金、鎳基合金的固溶處理。

需求：精確控溫（±1℃）、快速升溫（10℃/min以上）與冷卻速率控制。

優勢：程序控溫功能可實現復雜熱處理曲線，提升材料力學性能。

納米材料合成

應用場景：碳納米管、石墨烯的化學氣相沉積（CVD）；金屬氧化物納米顆粒的煅燒。

需求：高溫（1000℃～1200℃）、惰性氣氛（如氮氣、氬氣）保護。

優勢：密封爐膛可通入氣體，防止材料氧化或污染。