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[供應]GR/HI 84100-北京二氧化硫測定儀
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  • GR/HI 84100-北京二氧化硫測定儀
貨物所在地:
北京北京市
產地:
北京
更新時間:
2021-12-10 21:00:08
有效期:
2021年12月10日 -- 2022年6月10日
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產品簡介

北京二氧化硫測定儀HI84100采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領域,二氧化硫的主要應用是進行防腐。以葡萄酒為例,當有氧存在時將zui先與二氧化硫發生反映,起到抗氧化的作用,進而保證酵母菌的正常發酵,并抑制其他雜菌。

詳細介紹

微電腦二氧化硫滴定分析儀  二氧化硫測定儀

型號:GR/HI 84100

北京二氧化硫測定儀HI84100采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領域,二氧化硫的主要應用是進行防腐。以葡萄酒為例,當有氧存在時將zui先與二氧化硫發生反映,起到抗氧化的作用,進而保證酵母菌的正常發酵,并抑制其他雜菌。

北京二氧化硫測定儀基于微電腦控制技術,集滴定分析,磁力攪拌和電極測量于一體
性能優良操作簡單,可直接顯示測量結果
人性化設計,具有穩定標識和校準信息等顯示功能
殘留二氧化硫濃度取決于三個因素:總添加量,原初始量,添加的氧化程度
通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用
當殘留濃度超過2.0ppm時,即被人感知到,因此以此濃度作為上限值。
HI84100采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領域,二氧化硫的主要應用是進行防腐。以葡萄酒為例,當有氧存在時將zui先與二氧化硫發生反映,起到抗氧化的作用,進而保證酵母菌的正常發酵,并抑制其他雜菌。

基于微電腦控制技術,集滴定分析,磁力攪拌和電極測量于一體
性能優良操作簡單,可直接顯示測量結果
人性化設計,具有穩定標識和校準信息等顯示功能
殘留二氧化硫濃度取決于三個因素:總添加量,原初始量,添加的氧化程度
通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用
當殘留濃度超過2.0ppm時,即被人感知到,因此以此濃度作為上限值。

型號

HI 84100

滴定范圍

0 to 400 ppm of SO2

滴定方法

等電位氧化還原滴定法

滴定精度

讀數的5%

取樣量

50 mL

ORP電極

HI 3148B

供電方式

220V/60 Hz10VA

使用環境

0 to 50°C (32 to 122°F)RH max 95%

尺寸重量

208×214×163 mm;2200 g

 

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