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產品簡介
詳細介紹
微電腦二氧化硫滴定分析儀 二氧化硫測定儀
型號:GR/HI 84100
北京二氧化硫測定儀HI84100采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領域,二氧化硫的主要應用是進行防腐。以葡萄酒為例,當有氧存在時將zui先與二氧化硫發生反映,起到抗氧化的作用,進而保證酵母菌的正常發酵,并抑制其他雜菌。
北京二氧化硫測定儀•基于微電腦控制技術,集滴定分析,磁力攪拌和電極測量于一體
•性能優良操作簡單,可直接顯示測量結果
•人性化設計,具有穩定標識和校準信息等顯示功能
•殘留二氧化硫濃度取決于三個因素:總添加量,原初始量,添加的氧化程度
•通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用
•當殘留濃度超過2.0ppm時,即被人感知到,因此以此濃度作為上限值。HI84100采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領域,二氧化硫的主要應用是進行防腐。以葡萄酒為例,當有氧存在時將zui先與二氧化硫發生反映,起到抗氧化的作用,進而保證酵母菌的正常發酵,并抑制其他雜菌。
•基于微電腦控制技術,集滴定分析,磁力攪拌和電極測量于一體
•性能優良操作簡單,可直接顯示測量結果
•人性化設計,具有穩定標識和校準信息等顯示功能
•殘留二氧化硫濃度取決于三個因素:總添加量,原初始量,添加的氧化程度
•通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用
•當殘留濃度超過2.0ppm時,即被人感知到,因此以此濃度作為上限值。
型號 | HI 84100 |
滴定范圍 | 0 to 400 ppm of SO2 |
滴定方法 | 等電位氧化還原滴定法 |
滴定精度 | 讀數的5% |
取樣量 | 50 mL |
ORP電極 | HI 3148B |
供電方式 | 220V/60 Hz;10VA |
使用環境 | 0 to 50°C (32 to 122°F);RH max 95% |
尺寸重量 | 208×214×163 mm;2200 g |