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PLUTO-M-PLUTO-M型等離子清洗機/表面處理機/去膠機
  • PLUTO-M-PLUTO-M型等離子清洗機/表面處理機/去膠機
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貨物所在地:上海上海市

地: 上海

更新時間:2025-03-27 21:00:08

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PLUTO-M型等離子體表面處理系統是針對于高校,科學研究所和企業實驗室,或者小批量生產的創新性企業而研發的創新型實驗平臺。我們收集了大量客戶使用信息,分析應用需求,將多年設計和制造經驗應用于小型化,多功能的等離子體表面處理設備。無論是設計理念,零配件的選用,都傾注大量精力。
針對用戶不同的需求,我們提供對應配件,在獲得常規性能的同時,擁有表面鍍膜(涂層),刻蝕,等離子化學反應,粉體等離子體處理等

產品特點:

 

等離子源采用頻率為13.56MHz射頻發生器,同時具備物理清洗和化學清洗能力。

電源功率為200W,覆蓋常規處理需求

創新設計,可調整電極之間距離,調整等離子體濃度和強度,極大提升處理效率和能力

真空腔體和管道連接件均采用316不銹鋼,電極6061航空鋁合金,配件材質精良,保證設備穩定高效運行

樣品處理面積可達125mm(大處理面積可達200mm,如有需求請咨詢銷售人員)

4.3寸工業級觸摸屏,操作簡單,可設置多種實驗參數

性能穩定可靠,質量穩定,自主研發,售后有保障

 

 

產品參數:

 

  1. 真空腔規格: 316不銹鋼腔體,直徑210mm*(深)230mm 約4L
  2. 電極:兩個自適應平板電極,材質T6061鋁合金
  3. 電極尺寸:120*135mm 間距20~75mm 可調
  4. 等離子體發生器:RF射頻發生器,頻率:13.56MHz
  5. 功率:0-200W連續可調,精度1W
  6. 氣體控制:針式氣體流量閥,標配1路氣體
  7. 控制方式:4.3寸工業控制觸摸屏

控制軟件功能:界面顯示實時工作狀態,

可顯示設置值與實際值,便于實時控制。

可自由設置等離子功率,通入氣體時間

全手動控制和全自動控制可選

保護裝置:一鍵急停保護按鈕

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