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產(chǎn)品簡介
Elveflow AF1/AF1 Dual壓力進樣器，Elveflow AF用于準(zhǔn)確快速的產(chǎn)生和控制壓力，從而控制微流控芯片中流體的流量。
詳細介紹
Elveflow AF1/AF1 Dual壓力進樣器儀器簡介
Elveflow AF用于準(zhǔn)確快速的產(chǎn)生和控制壓力，從而控制微流控芯片中流體的流量。
Elveflow AF1/AF1 Dual壓力進樣器儀器詳細介紹
AF1集成了一個微型的壓力泵，高精度壓力傳感器和壓電控制的氣壓閥。它無需外界壓力源就可以產(chǎn)生從0-1.6 bar的壓力，并準(zhǔn)確的控制輸出的壓力，從而控制微流控芯片中的流速。AF1的響應(yīng)速度小于50 ms，穩(wěn)定時間小于40 ms，壓力波動小于0.05%。AF1可以提供高達1升體積的壓力源，即使長時間高流速的實驗也可以輕松面對。
AF1 Dual Pressure &Vacuum Controller不僅可以提供正壓力，也可以提供負壓力，其壓力控制范圍從－0.7到1 bar。在使用AF1 dual的時候，客戶需要聯(lián)合Vacuum& Pressure Generator一起使用。
設(shè)備參數(shù)
軟件控制界面
在Elveflow Smart Interface中可以對壓力進行準(zhǔn)確的控制
