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GVC-1000-射頻磁控濺射鍍膜儀
  • GVC-1000-射頻磁控濺射鍍膜儀
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貨物所在地：北京北京市

更新時間：2025-06-18 15:46:07

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GVC-1000射頻磁控濺射鍍膜儀主要適用于掃描電鏡鍍覆導電膜，儀器操作簡單方便，是樣品制備所必要的儀器。適用的靶材：金、鉑、金鈀合金、銀、鉛、銅、鉻、銻等！
　　GVC-1000射頻磁控濺射鍍膜儀（全自動離子濺射儀）主要適用于掃描電鏡鍍覆導電膜，儀器操作簡單方便，是樣品制備所必要的儀器。適用的靶材：金、鉑、金鈀合金、銀、鉛、銅、鉻、銻等！
　　描述
　　1、離子濺射儀工作原理：磁控濺射；
　　2、可選靶材：金，鉑，金鈀合金，鉛，銀，銅，鉻，銻等；
　　3、真空室：φ128×100高硅硼玻璃；
　　4、全自動操作，簡單易用，非常適用鎢燈絲、臺式掃描電鏡等；
　　濺射電流自動調整—設定濺射電流后，系統自動調節真空度，從而達到設定的濺射電流，調整時間＜5s，波動范圍＜±5%；
　　5、無需按“實驗”鍵調整濺射電流、無需操作“進氣閥”：
　?。?）濺射時間自動記憶——同類樣品一次設定即可；
　?。?）參數改變自動調整——濺射過程中可以隨時調整濺射電流和濺射時長，系統自動計算疊加，無需終止濺射過程；
　?。?）工作完成自動放氣；
　　（4）樣品臺高度調節1秒完成；
　?。?）濺射過程可以利用曲線顯示，清晰直觀；
　　（6）極限真空：小于1Pa；
　　6、軟硬件互鎖，防誤操作，安全可靠：
　?。?）真空度高于100Pa，啟動真空保護，無法濺射；
　　（2）濺射電流高于50mA，停止濺射過程；
　?。?）真空泵工作時，系統無法進行放氣操作；
　　7、GVC-1000射頻磁控濺射鍍膜儀鍍層均勻，導電性良好。

射頻磁控濺射鍍膜儀

射頻磁控濺射鍍膜儀

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