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日本HORIBA堀場等離子發射監測器EV2.0 HR
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所在地：日本

貨物所在地：北京北京市

更新時間：2025/1/17 11:46:10

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供應簡介
日本HORIBA堀場等離子發射監測器EV2.0 HR
在半導體制造工藝中，等離子體技術被廣泛應用于各種制造工藝中，包括薄膜沉積和蝕刻。
該等離子體發射監測儀可用于廣泛的應用，從各種等離子體室的研發到生產線，例如工藝終點檢測、狀態管理和等離子體診斷。


詳細介紹

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您可以根據您的應用從高分辨率、寬范圍和緊湊型這三種新開發的型號中選擇最佳規格。此外，借助專用分析軟件，我們可以滿足廣泛的需求，例如從微小的等離子體信號變化中檢測精確的終點以及監測等離子體過程中的異常情況。

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先進的專用軟件支持從研發到批量生產的廣泛應用。

使用一臺 PC 可同時測量多達 6 個腔室（6 個等離子體發射監測器）


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