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OmniES-Plasma-等離子體發射光譜測量系統
  • OmniES-Plasma-等離子體發射光譜測量系統
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貨物所在地：北京北京市

所在地： 北京市中關村科技園區通州園金橋

更新時間：2025-01-13 10:18:18

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該系統用于測量等離子體發射光譜測量，采用模塊化設計 采用光纖導光或空間光耦合


● 該系統用于測量等離子體發射光譜測量，采用模塊化設計
● 采用光纖導光或空間光耦合
● 可定位測量空間位置（選配功能）
● 測量光譜范圍：200-2500nm或1μm-14μm
● 光譜分辨率：優于0.05nm（@1200g/mm光柵）
● 波長準確度：優于±0.2nm
● 波長重復性：優于±0.1nm
● 光譜儀控制軟件包含濾光片輪自動控制功能、光譜曲線繪制功能、全自動測量、數據運算、保存及打印等功能

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