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“等效粒徑”是激光粒度儀中的核心概念，其應用貫穿于儀器測量原理、數據處理及結果解釋的全過程。等效粒徑是指當一個顆粒的某一物理特性（如體積、散射光強、沉降速度等）與同質的球形顆粒相近時，用該球形顆粒的直徑來代表實際顆粒的直徑。由于實際顆粒形狀復雜（如棒狀、片狀、多面體等），無法直接用“直徑”描述其大小，而球形是簡單的幾何模型。等效粒徑通過對比某一物理特性，將非球形顆粒簡化為“虛擬球形顆粒”，從而用直徑這一直觀量表征顆粒大小。
激光粒度儀主要基于散射光強或衍射角度測量顆粒大小，其等效粒徑屬于等效散射粒徑，即：
1、等效體積徑：假設顆粒的散射光強與某一球形顆粒相同，則該球形顆粒的直徑即為等效體積徑。這是激光法默認的等效方式，反映顆粒的體積分布特性。
2、修正模型：對于非球形顆粒（如棒狀、片狀），需通過修正算法（如擬合橢圓法、比表面積法）補償形狀差異，計算更接近真實體積的等效粒徑。
等效粒徑的局限性與誤差來源：
1、形狀影響：非球形顆粒（如棒狀、片狀）的散射特性與球形差異較大，可能導致等效粒徑偏差。例如：
2、棒狀顆粒：長度遠大于直徑時，散射光強可能偏小，導致等效粒徑低估。
3、片狀顆粒：薄片結構可能遮擋部分激光，導致等效粒徑高估。
4、復折射率選擇：計算中需已知顆粒材料的復折射率，但其值可能因樣品雜質或表面處理而變化，引入誤差。
5、多重散射效應：高濃度樣品中，顆粒間相互遮擋或多次散射會干擾測量，需通過稀釋樣品或算法校正。
等效粒徑的實際應用場景：
1、工業質量控制：如制藥、陶瓷、化工等領域，通過等效粒徑快速評估粉體粒度分布，優化工藝參數。
2、研究與分析：在顆粒形態研究中，等效粒徑可作為初步表征，但需結合顯微鏡或圖像法分析形狀差異。
“等效粒徑”是激光粒度儀將復雜顆粒形狀簡化為球形模型的關鍵概念，其應用依賴于光學散射原理和數學模型的修正。盡管存在形狀敏感性和復折射率選擇等限制，但它仍是目前便捷的粒度表征方法之一。對于非球形顆粒，需結合修正算法或其他方法（如圖像分析）提高準確性。
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