1 產品概述:

   RIBER分子束外延4 英寸中試生產系統是一款專為半導體制造領域設計的先進設備，旨在滿足中試生產階段對高質量、高精度晶體沉積的需求。該系統集成了高精度沉積技術、多源端口設計、先進的真空系統以及可定制化等特性，為半導體材料的生長和器件的制造提供了強有力的支持。

2 設備用途：

1. 工藝驗證與優化：該系統主要用于驗證和優化在實驗室小試階段確定的工藝路線和技術參數。通過中試生產，可以進一步考察工藝的穩定性、設備的可靠性以及產品的質量，為后續的大規模工業化生產提供數據支持和技術依據。

2. 材料生長：RIBER分子束外延4 英寸中試生產系統能夠在襯底上精確沉積各種材料，如GaAs、InP、GaN等，實現原子層級的控制，確保薄膜的高質量和均勻性。這些材料是制造微電子器件、光電器件等的關鍵材料。

3. 復雜結構生長：該系統配備的多源端口設計使其能夠滿足不同材料的沉積需求，有助于生長復雜的半導體結構，如量子點、量子阱等，為新型半導體器件的研發提供可能。

3 設備特點

  高精度沉積：RIBER分子束外延4 英寸中試生產系統能夠實現原子層級的材料沉積控制，確保薄膜的高質量和均勻性。這種高精度沉積能力對于提高器件性能和可靠性至關重要。

  多源端口設計：該系統可配備多個源端口，以滿足不同材料的沉積需求。這種設計靈活性使得系統能夠生長多種材料組合和復雜結構，為半導體器件的多樣化提供了可能。

    先進的真空系統：提供高真空環境，有效減少雜質和污染，保證晶體沉積的純度和質量。高真空環境是分子束外延技術實現高質量沉積的關鍵因素之一。