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Batch Type部件鍍膜設備PX 1950
TF-1200-PECVD等離子增強化學氣相沉積系統PX 2624
高真空電子東蒸發薄膜沉積系統--EB700PX 3722
微波等離子化學氣相沉積系統PX 2599
CVD化學氣相沉積裝置PX 2894
CYRANNUS微波等離子化學氣相沉積系統PX 2852
金屬有機化合物化學氣相沉積鍍膜設備PX 3014
C2GR16-立式氣相沉積爐PX 2790
CVD化學氣相沉積設備PX 3156
FL-800N低溫化學氣相沉積冷卻系統-試驗用冷水機PX 6264
FPSEM-ICP200D等離子體增強化學氣相沉積系統PX 3144
C2GR16-氣相沉積爐PX 2740
CC-200日本ULVAC愛發科半導體化學氣相沉積設備PX 4800
GS-30-700廣樹CVD化學氣相沉積碳鍍膜機PX 3756
ICP-500D薄膜沉積CVDPX 2690
NPE-3500 PECVD等離子體化學氣相沉積系統PX 2870
ZT-60-15立式化學氣相沉積爐PX 3439
等離子體化學氣相沉積設備PX 2083
轉移多壁碳納米管垂直陣列(化學氣相沉積法)PX 3387
Trion Orion HDCVDTrion Orion HDCVD高密度化學氣相沉積系統PX 3315
TF1200-PECVD型等離子增強化學氣相沉積系統PX 3211
Automotive Lamp Reflector薄膜沉積鍍膜系統PX 1950
TurboDisc EPIK 868金屬有機化學氣相沉積MOCVDPX 1950
Propel 300mm GaN金屬化學氣相沉積MOCVDPX 1950
SENTECH SIPAR ICPICP沉積系統PX 1950
SENTECH Depolab 200開蓋等離子體沉積系統PECVDPX 1950
PlasmaPro 1000等離子增強化學氣相沉積PECVDPX 1950
PlasmaPro 80 PECVD等離子增強化學氣相沉積PECVDPX 1950
PlasmaPro 800 PECVD等離子增強化學氣相沉積PECVDPX 1950
PlasmaPro 100 PECVD等離子增強化學氣相沉積PECVDPX 1950
PlasmaPro 100 ICPCVD電感耦合等離子體化學氣相沉積ICPCVDPX 1950
Seehund® A 系列氣相分解金屬沾污收集(VPD)設備PX 1950
Shale® A 系列8英寸等離子體增強化學氣相沉積設備PX 1950
CCS系統化合物半導體沉積系統PX 1950
AIX G5+ C化合物半導體沉積系統PX 1950
AIX G5 WW C化合物半導體沉積系統PX 1950
AIX 2800G4-TM化合物半導體沉積系統PX 1950
MOCVD金屬有機源氣相沉積系統PX 1950
線列式PECVD高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積系統PX 1950
Cluster PECVD高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積系統PX 1950
薄膜生長設備
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集成電路測試與分選設備
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其它半導體行業儀器設備
高真空電子東蒸發薄膜沉積系統--EB700
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高真空電子東及熱阻薄膜沉積系統--DZS500
高真空磁控濺射薄膜沉積系統--PVD500
高真空磁控濺射薄膜沉積系統--TRP450
日本ULVAC愛發科半導體化學氣相沉積設備
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