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邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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| 產品圖片 | 產品名稱 | |||
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VS160UG II德國進口budatec真空回流焊爐立式 簡單介紹：德國進口budatec真空回流焊爐立式 面向半導體與光伏精密制造需求開發，集成真空焊接/燒結雙工藝模式，搭載±1.5℃超精度溫控模塊與160mm²加熱平臺，實現3K/s級溫變速率的動態熱管理。德國原廠制造的智能化系統兼容多元工藝氣體環境，通過觸控式人機界面實現全流程數字化管控，同步優化加工效率與設備維保便捷性 產品型號：VS160UG II 所在地：武漢市 更新時間：2025-06-06 |
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VS160UG德國進口budatec回流焊爐立柜式 簡單介紹：德國進口budatec回流焊爐立柜式專為半導體與光伏行業設計，提供高精度溫控和高效能加工。核心功能包括真空焊接和燒結，支持多種工藝氣體適配。設備采用德國柏林制造，具備160×160mm²加熱區域及±1.5℃控溫精度，支持3K/s加熱/冷卻速率。配備智能工藝控制系統及圖形化界面，確保穩定運行并簡化維護流程。 產品型號：VS160UG 所在地：武漢市 更新時間：2025-06-06 |
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VS160S II德國進口budatec回流焊爐桌面式 簡單介紹：德國進口budatec回流焊爐桌面式，專用于半導體器件與光伏組件的精密焊接及金屬燒結工藝。該設備搭載多通道獨立溫控模塊，配備每秒3開爾文溫變速率的快速熱循環系統，集成可編程氣體流量控制器，實現全流程數字化控制。系統配置160mm²標準工藝臺面，支持450℃峰值焊接溫度，兼容氮氣保護與N?/H?二元工藝氣體環境，其圖形化操作界面與智能維保預警系統可保障高 產品型號：VS160S II 所在地：武漢市 更新時間：2025-06-06 |
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VS160S德國進口budatec真空回流焊爐 簡單介紹：德國進口budatec真空回流焊爐，專為半導體和光伏器件的焊接與燒結工藝設計。具備高精度溫控、快速升降溫（3K/s）及靈活的氣體流量編程控制，支持全數字化工藝管理。設備采用160×160mm²工作臺，最高焊接溫度達450℃，并提供氮氣及氮氫混合氣支持。其多通道溫控、圖形化界面及智能維護功能確保高效穩定運行，適用于精密焊接需求。 產品型號：VS160S 所在地：武漢市 更新時間：2025-06-06 |
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L2006ossila浸涂機Dip Coating 簡單介紹：ossila浸涂機Dip Coating是一款專為研究人員設計的高性能薄膜涂覆設備，具有高精度電機、平穩運動及廣泛的基材兼容性等優點。其速度范圍廣，從0.01mm/s到50mm/s，確保了不同厚度的涂層需求。 產品型號：L2006 所在地：武漢市 更新時間：2025-06-06 |
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L2006Aossila浸涂機Dip Coater 簡單介紹：ossila浸涂機Dip Coater通過0.01-50mm/s精密調速（速率重復性±0.01%@1mm/s）結合嵌入式控制軟件（10組×20程序），實現100mm行程內±0.3%運動精度，緊湊結構（200×300×350mm）集成碰撞防護與99小時59分連續運行能力，適配多元基材涂覆需求。 產品型號：L2006A 所在地：武漢市 更新時間：2025-06-06 |
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L2002ossila紫外臭氧清洗機UV Ozone Cleaner 簡單介紹：ossila紫外臭氧清洗機UV Ozone Cleaner搭載4支150mm合成石英燈管（185nm/254nm雙波段輸出），通過紫外光解氧分子生成臭氧，實現有機污染物的非接觸式氧化分解。系統配備153mm直徑可溫控樣品臺，支持12mm厚度內各類基材處理。 產品型號：L2002 所在地：武漢市 更新時間：2025-06-06 |
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L2002Aossila紫外臭氧清洗機UVO 簡單介紹：ossila紫外臭氧清洗機UVO作為精密表面處理設備，通過高強度雙波段紫外光源（185nm/254nm）激發臭氧氧化反應，實現有機污染物的無損傷分解與揮發，可在多元基材（石英/硅/金屬/玻璃等）表面獲得原子級潔凈度。系統配置153mm直徑溫控樣品臺，集成LCD雙模計時顯示（剩余/已用時間），內置機械聯鎖與過熱保護機制，適用于表面能改性（親水化處理）、薄膜沉積預處理、精密器件清洗等關鍵工藝。 產品型號：L2002A 所在地：武漢市 更新時間：2025-06-06 |
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L2001Ossila勻膠機旋涂儀 簡單介紹：Ossila勻膠機旋涂儀以經濟型設計融合實驗室操作需求，采用免真空技術替代傳統真空泵/氮氣依賴，通過特制凹槽托盤實現基片穩定固定。設備集成10組可編程參數模塊，支持120-6000 RPM寬域調速及多工序流程設定，配備不銹鋼防腐蝕外殼與24V直流安全供電系統，適配多種規格基片處理，在簡化操作流程的同時降低維護成本，滿足實驗室精準涂覆與耐用性需求。 產品型號：L2001 所在地：武漢市 更新時間：2025-06-06 |
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L2001AOssila勻膠機Spin Coater 簡單介紹：Ossila勻膠機Spin Coater 采用創新機械設計，專為實驗室環境研發，具備精準薄膜沉積能力。系統通過智能程序化控制實現120-6000 RPM無極調速，適配從結晶材料到超薄膜制備的多樣化實驗需求。設備內置水平校準系統與免真空托盤，確保基材平整度與涂覆均勻性。 產品型號：L2001A 所在地：武漢市 更新時間：2025-06-06 |
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Table Top加拿大進口Plasmionique離子濺射鍍膜儀 簡單介紹：加拿大進口Plasmionique離子濺射鍍膜儀，多功能薄膜沉積系統，搭載Plasmionique公司研發的濺射陰極技術，專為實現高靶材利用率而設計，支持平衡與非平衡磁控配置，并提供圓形或矩形靶材適配方案。 產品型號：Table Top 所在地：武漢市 更新時間：2025-06-06 |
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Table Top 4Plasmionique微波等離子MWPlasma MWPECVD 簡單介紹：Plasmionique微波等離子MWPlasma MWPECVD，加拿大進口桌面式設備，可支持MWPlasma微波等離子體和MWPECVD微波等離子體增強化學氣相沉積。 產品型號：Table Top 4 所在地：武漢市 更新時間：2025-06-06 |
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Table Top 2Plasmionique 支持電子束蒸發和熱蒸發 鍍膜 簡單介紹：Plasmionique 支持電子束蒸發和熱蒸發 鍍膜 ，加拿大進口桌面式設備，可支持EBeam電子束蒸發和Thermal Evaporation熱蒸發 產品型號：Table Top 2 所在地：武漢市 更新時間：2025-06-06 |
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Table Top 3Plasmionique支持 CVD / ALD / PECVD / RIE 簡單介紹：Plasmionique支持 CVD / ALD / PECVD / RIE ，加拿大進口桌面式設備，模塊化設計，可支持ALD原子層沉積，CVD化學氣相沉積，PECVD??等離子體增強化學氣相沉積和RIE??反應離子刻蝕。 產品型號：Table Top 3 所在地：武漢市 更新時間：2025-06-06 |
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HL 200德國進口OEG接觸角測量儀 簡單介紹：德國進口OEG接觸角測量儀SURFTENS 200是專為半導體研發的接觸角測量系統，以±0.1°精度、0.2μl液滴控制及360°晶圓掃描能力，1秒內分析表面潤濕性。緊湊設計集成高精度光學系統，支持自動/手動滴液模式，適配200mm晶圓真空無損檢測，精準優化光刻膠附著力與表面能。 產品型號：HL 200 所在地：武漢市 更新時間：2025-06-06 |
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SURFTENS 200德國進口OEG接觸角測量儀 簡單介紹：德國進口OEG接觸角測量儀 SURFTENS 200是專為半導體研發的接觸角測量系統，以±0.1°精度、0.2μl液滴控制及360°晶圓掃描能力，1秒內分析表面潤濕性。緊湊設計集成高精度光學系統，支持自動/手動滴液模式，適配200mm晶圓真空無損檢測，精準優化光刻膠附著力與表面能。 產品型號：SURFTENS 200 所在地：武漢市 更新時間：2025-06-06 |
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SURFTENS HL 200德國進口接觸角測量儀 簡單介紹：德國進口接觸角測量儀SURFTENSHL 200 是一款專為半導體行業及研究設計的接觸角測量系統，專注于硅晶圓表面處理工藝控制。它能高效、精確地測量晶圓的潤濕性和接觸角，幫助優化光刻工藝，提高光刻膠附著力，減少缺陷密度。系統具備緊湊結構、高精度光學元件、可調LED照明及多種滴液系統配置選項，支持手動與自動測量模式，提供高重復性與便捷操作，是提升半導體制造工藝可靠性的理想工具。 產品型號：SURFTENS HL 200 所在地：武漢市 更新時間：2025-06-06 |
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RTP800V國產立式快速退火爐 8寸真空 簡單介紹：國產立式快速退火爐 8寸真空，RTP800V，使用多溫區控溫，可通過APP界面調節溫度均勻性。優秀的光源冷卻系統確保光源壽命達到國際水平。科學的波長分布保證半導體材料可有效吸收。 產品型號：RTP800V 所在地：武漢市 更新時間：2025-06-06 |
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RTP500SV國產小型桌面式快速退火爐 4寸真空 簡單介紹：國產小型桌面式快速退火爐 4寸真空，RTP500SV，使用多溫區控溫，可通過APP界面調節溫度均勻性。優秀的光源冷卻系統確保光源壽命達到國際水平。科學的波長分布保證半導體材料可有效吸收。 產品型號：RTP500SV 所在地：武漢市 更新時間：2025-06-06 |
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RTP500Z國產小型桌面式快速退火爐 4寸非真空 簡單介紹：國產小型桌面式快速退火爐 4寸非真空，RTP500Z，使用多溫區控溫，可通過APP界面調節溫度均勻性。優秀的光源冷卻系統確保光源壽命達到國際水平。科學的波長分布保證半導體材料可有效吸收。 產品型號：RTP500Z 所在地：武漢市 更新時間：2025-06-06 |
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