等離子清洗設備去除晶圓光刻蝕膠

時間：2021/3/5閱讀：251

等離子體清洗機的干式處理在對半導體器件的性能提升上具有顯著的優勢，等離子清洗機可清洗晶圓表面的顆粒、有機物、金屬雜質、氧化物

等離子體清洗機去除晶圓表面光刻膠

等離子體清洗機在處理晶圓表面光刻膠時，等離子表面清洗能夠去除表面光刻膠和其余有機物，也可以通過等離子活化和粗化作用，對晶圓表面進行處理，能有效提高其表面浸潤性。相比于傳統的濕式化學方法，等離子體清洗機干式處理的可控性更強，一致性更好，并且對基體沒有損害。

晶圓等離子清洗機（等離子灰化/去光刻膠/聚合物剝離/預處理/介電質刻蝕/晶圓凸點/有機污染去除/晶圓減薄）等離子處理設備



立即詢價 您留言后，廠商將第一時間為您服務！

*留言

限200字

上傳附件

*聯系人

*電話

單位

微信

同手機號

郵箱

省份

請選擇省份

*驗證碼

請輸入計算結果（填寫阿拉伯數字），如：三加四=7

請輸入賬號

請輸入密碼

請輸驗證碼

信息收藏成功！

該信息已收藏！

您的留言已提交成功！我們將在第一時間回復您~

以上信息由企業自行提供，信息內容的真實性、準確性和合法性由相關企業負責，化工儀器網對此不承擔任何保證責任。

溫馨提示：為規避購買風險，建議您在購買產品前務必確認供應商資質及產品質量。