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　光刻冷水機（Litho Chiller）是半導體光刻工藝中的核心溫控設備，其通過高精度制冷循環與智能溫控系統，確保光刻機在制造中維持熱穩定性。因此，光刻冷水機不僅是冷卻裝置，更是保障曝光精度與芯片良率。

　　一、技術原理：熱力學循環與動態溫控的協同

　　光刻冷水機的核心技術基于逆卡諾循環與多級反饋控制的深度集成。其工作流程始于制冷劑的相變循環：壓縮機將低溫低壓氣態制冷劑壓縮為高溫高壓氣體，輸送至冷凝器后通過風冷或水冷散熱液化；高壓液態制冷劑經膨脹閥節流降壓，轉化為低溫低壓氣液混合物；在蒸發器中吸收冷卻液的熱量并汽化，完成熱量從光刻機到外部環境的轉移。

　　為滿足光刻工藝的嚴苛需求，現代冷水機融合了三項核心技術：

　　雙循環溫控架構：針對光刻機不同部件的溫差需求，系統分為獨立的高低溫回路。例如，激光光源需次級循環提供-10℃低溫冷卻以穩定波長，而光學鏡片則需主循環維持±0.1℃恒溫，兩者通過板式換熱器隔離熱量交叉。

　　動態響應算法：光刻過程中激光功率的瞬時波動要求冷水機調節制冷輸出。采用PID結合模糊控制算法，通過實時監測蒸發器出口與壓力泵入口的溫差，動態調節壓縮機功率與加熱器功率，將溫度波動壓制在±0.05℃以內。

　　流體輸送優化：為遏制高速磁懸浮工件臺運動引發的振動與熱擾動，冷卻回路集成脈沖寬度調制技術，通過調節電磁閥開度控制冷卻液流速，確保晶圓表面溫差≤±0.1℃。微通道換熱器設計則進一步強化熱傳遞效率，其流道孔徑小于1mm，可均勻分布冷卻液至光學模塊的每個接觸點。

　　二、應用場景：從光學系統到浸沒環境的全域熱管理

　　光刻冷水機的應用貫穿光刻工藝全鏈條，其功能可歸納為三類場景：

　　光學系統冷卻：投影物鏡在曝光中因吸收激光能量產生熱膨脹，導致成像畸變。冷水機通過微通道直接向物鏡輸送±0.1℃恒溫冷卻水。激光光源需雙重冷卻：主循環維持基準溫度，次級循環以-10℃低溫水遏制等離子體光源的功率波動，保障曝光波長穩定性。

　　工件臺與晶圓溫控：磁懸浮平臺在高速運動中因摩擦生熱，需冷卻回路嵌入振動補償機制。晶圓表面則依賴微孔冷卻陣列，在浸沒式光刻中均勻散熱，避免局部熱應力導致硅片翹曲。

　　浸沒式環境控制：在浸沒式光刻機中，超純水作為折射介質覆蓋晶圓表面。水溫波動超過0.1℃將改變水的折射率，引發光路偏移。冷水機同步調控浸沒液體溫度至20℃±0.1℃，并通過過濾系統維持水質電阻率≥15MΩ·cm，防止離子污染影響曝光分辨率。

光刻冷水機的技術本質，是在光與熱構建動態平衡。其原理依托于經典熱力學循環，從激光光源的能量脈動到晶圓表面的分子熱運動，每一處微小的溫差都被轉化為可調控的變量。