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半導體芯片冷熱沖擊方法
將試件芯片通電置于置物架上;
根據要求設定試驗溫度;
首先對試件進行低溫試驗,再進行高溫試驗,循環次數依要求進行;
記錄半導體芯片工作狀態下,在設定溫度下的相關參數, 對產品分析, 工藝改進以及批次的定向品質追溯提供確實的數據依據。
冷熱沖擊方向選擇
試件從低溫或是高溫試驗開始,不同標準有不同的解析。若試驗從低溫段開始,試驗結束在高溫段;若試驗從高溫段開始,結束在低溫段。為防止試件在試驗結束后表面產品凝露,試驗結束在低溫段時需要增加烘干恢復的過程,這樣就增加了試驗周期,建議試驗從低溫段開始,結束在高溫段。
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