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一、概述 SHD6-BE涂膠顯影系統(tǒng)一體機(jī)主要由勻膠單元、烤膠單元、顯影單元等部分組成，該設(shè)備針對(duì)高校研究所實(shí)驗(yàn)室，特點(diǎn)是占地面積小，性價(jià)價(jià)比更高。整機(jī)采用框架...

本設(shè)備利用反射干涉的原理進(jìn)行無損測(cè)量，測(cè)量吸收或者透明襯底上薄膜的厚度以及折射率，同時(shí)提供樣品反射率，測(cè)量精度達(dá)到埃級(jí)的分辨率，測(cè)量迅速，操作簡(jiǎn)單，界面友好，測(cè)...

UV 光清洗機(jī)擁有工業(yè)級(jí)別的清洗效率和效果，采用更簡(jiǎn)易操作的抽屜式托盤設(shè)計(jì)，廣 泛應(yīng)用于光伏（鈣鈦礦電池），半導(dǎo)體芯片（晶圓）和光學(xué)元件及光通訊領(lǐng)域，適用于中小...

HPP-8是針對(duì)半導(dǎo)體工藝生產(chǎn)中晶圓烘烤而設(shè)計(jì)的一款產(chǎn)品.采用新穎的數(shù)字式加觸摸屏面板，精準(zhǔn)的控制熱板表面溫度；堅(jiān)固耐腐蝕的鋁合金面板，表面陽極氧化處理，保障均...

應(yīng)用：在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)。應(yīng)用：在...

MAS4-BE光刻系統(tǒng)一體機(jī)主要由勻膠單元、烤膠單元、曝光單元、顯影單元等部分組成，該設(shè)備針對(duì)高校研究所實(shí)驗(yàn)室，特點(diǎn)是占地面積小，性價(jià)價(jià)比更高。整機(jī)采用框架結(jié)構(gòu)...

設(shè)備簡(jiǎn)介：桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)，用于對(duì)均勻性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液手動(dòng)涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰等基片上形成薄膜，主要應(yīng)用于12寸以內(nèi)...