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臥推機是一種在辦公桌上使用的小型壓力機。由于在桌面上使用，因此也稱為臺式壓力機。將金屬等被加工材料放置在壓力機的模具之間，對材料施加強大的壓力，使其變形為模具的形狀并進行加工。它還用于粉末成型和填縫工藝，其中將金屬粉末或化學粉末放入模具中并施加高壓。由于其結構簡單，易于維護，使用壽命長。施加壓力的方法包括液壓、氣動、螺桿和曲柄方法。臺式壓力機的用途臺式壓力機用于生產現場，例如生產線和研發現場的裝配過程。通過改變壓力和驅動方式，以及模具的尺寸和形狀，可以實現符合規格的高質量加工。它被廣泛應用于電子
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臺式銑床是銑床小型化的機床，專為臺式使用而設計。與普通銑床一樣，可以使用銑刀切削材料，銑刀是連接到旋轉主軸的切削刀具。典型的銑床體積大且價格昂貴，因此通常用于商業用途，但如果您使用臺式銑床，則可以輕松在家中進行操作。臺式銑床配備有主軸、立柱和鞍座，根據主軸的方向分為立式和臥式兩種類型。通過使用臺式銑床，您可以自由切割金屬和塑料等材料。此外，銑床不僅適用于切割，還適用于鉆孔和切槽，對于DIY愛好者和那些喜歡手工制作的人來說是非常有用的機床。臺式銑床的用途臺式銑床主要用于切割金屬材料，因為它們可以用
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超連續譜光源（SC光源）又稱超連續譜激光器，是發射特殊激光的光源。激光是指具有相同相位的光，即相干光。普通激光器發射單一波長的光，但SC光源是多波長激光光源，可在很寬的波長范圍內同時發射多束相位對齊的光。據說，當不同波長的光重疊時，光會變成白色。SC光源發出的激光是相干光，由于包含各種波長的光，因此被稱為白激光。SC光源通過將極短的納秒或皮秒周期的強大脈沖激光穿過光纖電纜來產生這種光。超連續譜光源的應用SC光源發出較寬波長范圍的相位對準光，因此被用于光學相干斷層掃描（OCT）、共焦顯微鏡、熒光成
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ALD（沉積）設備是利用原子層沉積形成納米級薄膜的設備。由于薄膜是按原子逐層形成的，因此具有精確的膜厚可控性和精確的階梯涂布性能。但缺點是成膜速度慢。ALD成膜中使用了許多有機金屬材料，但其中許多材料對人體有負面影響，并且高度易燃。處理需要專業知識和極其小心。ALD設備的應用ALD設備常用于半導體生產工藝、FPD生產工藝等。近年來，這項技術已成為DRAM生產中的一部分。以下是使用ALD裝置形成的薄膜的例子。1.柵極氧化膜形成FET等晶體管時必需的具有高介電常數的薄膜。主要采用Al2O3、ZrO2
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電子束光刻設備是半導體光掩模生產中利用電子束在光掩模毛坯（以下簡稱毛坯）上繪制電路圖形的設備。在存儲器、CPU等LSI的制造中，將分割為數十層的光掩模作為母板，使用曝光裝置將光掩模上的圖案轉印到晶圓上來制作電路。光掩模的質量對LSI良率影響最大。因此，在光掩模上繪制圖案的電子束光刻設備可以說是LSI制造中最重要的設備之一。電子束光刻設備的應用電子束光刻設備用于在制造光掩模以及制造MEMS等納米技術產品時在毛坯上繪制電路圖案。在LSI制造過程中，掩模制造涉及將設計過程中創建的電子文件上的圖案數據轉
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步進曝光機是一種用于光刻（半導體和液晶制造工藝）的投射曝光設備。隨著IC電路圖案的小型化，制作全尺寸光掩模圖案變得困難。這是指在對大于實際尺寸的掩模圖案進行縮小投影曝光時進行分步重復曝光的曝光設備步進機是一種曝光設備，通過執行步進和重復來曝光整個待曝光區域。步進機的使用步進機用于半導體和液晶的制造，特別是用于光刻過程中使用掩模的曝光處理。步進法包括步進重復法和步進重復法，其中，由于一次可以轉移的面積較小，因此在步進時將晶圓順序曝光；以及步進重復法，其中稱為掃描儀的標線和存在一種使用步進機進行曝光
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半導體清洗設備是清洗工藝中使用的設備的總稱，是半導體制造工藝之一。清洗工藝是重要工藝，占整個半導體制造工藝的30-40%。在高溫處理工序或薄膜形成工序之前，有作為前工序的清洗，除去污垢；在除去氧化物和薄膜的蝕刻工序之后，有作為后工序的清洗，除去抗蝕劑殘渣。半導體清洗設備大致分為使用化學品和純水的濕式清洗設備和不使用化學品的干式清洗設備。半導體清洗設備的應用半導體清洗設備用于半導體制造工廠的各種工藝中。它既用于在硅晶圓上形成半導體器件的預處理，也用于分離器件并封裝它們以制造最終產品的后處理。特別是
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激光位移計是一種利用激光測量物體位置和距離的裝置。激光照射到物體表面，通過光檢測并測量物體的位移。無需接觸即可進行高精度位移測量。另一個特點是它可以高速檢測。激光束照射和光檢測幾乎同時發生，從而可以立即測量位移。適用于高速運動和振動分析。激光位移計的應用激光位移計可用于多種應用，因為它們能夠進行非接觸式高精度測量。1.材料變形與應力分析通過測量物體受力時的微小位移和變形，可以評估材料的彈性和剛性。2.建筑物、機器等結構的振動分析可以測量物體的振動頻率、振動模式、共振現象等，評價結構的穩定性和耐久
