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雖然單個設(shè)備的待機損耗可能看起來微不足道，但是如果您將住宅數(shù)量與住宅中的家電數(shù)量及每臺家電待機消耗的數(shù)量相乘時，問題很快會凸顯出來。據(jù)國際能源機構(gòu)估計，全球5-15%的家用電器消耗量均是在待機模式下產(chǎn)生的。在美國，每瓦電能的成本大約是每年1到1.5美元。美國勞倫斯伯克力國家實驗室(LawrenceBerkeleyNationalLab)估計，在美國家庭一年的電費中，待機損耗將會超過50億。根據(jù)美國能源部的報告，美國每年使用的待機電能相當(dāng)于26座平均規(guī)模的電站的發(fā)電量！隨著家用電器的普及以及帶有電
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當(dāng)VCR、DVD以及手機充電器等電器設(shè)備插接在墻壁插座中時，即使這些產(chǎn)品處于閑置狀態(tài)，但卻仍然在消耗電能。消費者通常會認(rèn)為他們的設(shè)備已經(jīng)關(guān)機，而事實上，該設(shè)備只是處于待機狀態(tài)，仍然在消耗著功率。譬如，當(dāng)您使用遙控器關(guān)閉VCR后，由于VCR內(nèi)部的電源仍然處于接通狀態(tài)并為遙控接收器供電，因此VCR仍在待機或睡眠模式下耗費著電能。盡管遙控接收器消耗的功率微乎其微(大約0.1W)，但由于采用低效技術(shù)的電源(如線性電源)不夠智能，無法減少待機狀態(tài)下的功率消耗，結(jié)果往往會浪費幾瓦的功率。這就是我們所說的待機
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注塑機維修工作的核心是故障的判斷和故障的處理。它涉及知識面廣，復(fù)雜程度大，具有一定的深度(如綜合專業(yè)知識水平)。既要有機械設(shè)備維修基礎(chǔ)知識，又要有液壓維修基礎(chǔ)知識，也要有電氣維修基礎(chǔ)知識。其實注塑機維修工作即艱辛，但又是不斷學(xué)習(xí)進取的過程，只要掌握注塑機的基本工作原理，掌握基本工作方法，不論各種機型，萬變不離其宗，都能探索出一套維修工作程序來，以保證注塑機正常工作運行。維修工作者首先必須了解和掌握注塑機的操作說明書中的內(nèi)容，熟悉和掌握注塑機的機械部件、電路及油路，了解注塑機在正常工作時機械、電路
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發(fā)光二極管是由Ⅲ-Ⅳ族化合物，如GaAs（砷化鎵）、GaP（磷化鎵）、GaAsP（磷砷化鎵）等半導(dǎo)體制成的，其核心是PN結(jié)。因此它具有一般P-N結(jié)的I-N特性，即正向?qū)ǎ聪颡そ刂埂舸┨匦浴４送猓谝欢l件下，它還具有發(fā)光特性。在正向電壓下，電子由N區(qū)注入P區(qū)，空穴由P區(qū)注入N區(qū)。進入對方區(qū)域的少數(shù)載流子（少子）一部分與多數(shù)載流子（多子）復(fù)合而發(fā)光，如圖1所示。假設(shè)發(fā)光是在P區(qū)中發(fā)生的，那么注入的電子與價帶空穴直接復(fù)合而發(fā)光，或者先被發(fā)光中心捕獲后，再與空穴復(fù)合發(fā)光。除了這種發(fā)光復(fù)合外，還有
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干法刻蝕的工藝參數(shù)，一般指刻蝕條件中可以被調(diào)整的條件項目。即，刻蝕條件中的工藝氣體的流量、各工藝氣體之間的比例、腔體的壓力、腔體上下電極上設(shè)定的功率、下部電極的溫度(及腔壁的設(shè)定溫度)、終點檢測系統(tǒng)中檢測窗口的設(shè)定參數(shù)。通常我們利用工藝參數(shù)與刻蝕參數(shù)之間的關(guān)系，來制定可以滿足規(guī)格圖形需要的刻蝕條件。比如，對于一些尺寸規(guī)格較小的接觸孔圖形，在干法刻蝕的過程中，常會出現(xiàn)中途刻蝕停止的現(xiàn)象，這往往是由于反應(yīng)聚合物在孔內(nèi)側(cè)壁聚積引起的。由于接觸孔的孔徑較小，內(nèi)壁上聚合物的堆積回阻止等離子自由活性激團進一
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我們可以了解到干法刻蝕的主要過程。反應(yīng)腔體內(nèi)氣體等離子體中的離子，在反應(yīng)腔體的扁壓作用下，對被刻蝕的表面進行轟擊，形成損傷層，從而加速了等離子中的自由活性激團在其表面的反應(yīng)，經(jīng)反應(yīng)后產(chǎn)生的反應(yīng)生成物，一部分被分子泵從腔體排氣口排出，一部分則在刻蝕的側(cè)壁上形成淀積層。干法刻蝕就是在自由活性激團與表面反應(yīng)和反應(yīng)生成物不斷淀積的過程中完成的。離子轟擊體現(xiàn)了干法刻蝕的異方性，而由于側(cè)壁的淀積，則很好的抑制了自由活性激團反應(yīng)時，等方性作用對側(cè)壁的刻蝕[3]。正因為干法刻蝕這一物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)相結(jié)合的du
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干法刻蝕中的等離子體干法刻蝕工藝是利用氣體中陰陽粒子解離后的等離子體來進行刻蝕的。所謂的等離子體，宇宙中99%的物質(zhì)，均處于等子狀態(tài)。其中包含了中性的粒子、離子和電子，它們混合在一起，表現(xiàn)為電中性。在干法刻蝕中，氣體中的分子和原子，通過外部能量的激發(fā)，形成震蕩，使質(zhì)量較輕的電子脫離原子的軌道與相鄰的分子或原子碰撞，釋放出其他電子，在這樣的反復(fù)過程中，最終形成氣體離子與自由活性激團。而干法刻蝕，則利用了氣體等離子體中的自由活性激團與離子，與被刻蝕表面進行反應(yīng)，以此形成最終的特征圖形。
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嵌入式系統(tǒng)和單片機都是指在硬件設(shè)備中集成計算機系統(tǒng)的技術(shù)，但它們有一些不同點：1、概念上的區(qū)別：單片機是一種微型計算機系統(tǒng)，它通常指具有微處理器、存儲器、輸入輸出設(shè)備、計時計數(shù)器等功能模塊的芯片；嵌入式系統(tǒng)是在更廣泛的范圍內(nèi)應(yīng)用的，它不僅包括硬件設(shè)備，還包括軟件和固件。2、設(shè)計思想的區(qū)別：單片機是一種面向特定應(yīng)用的設(shè)計思想，它通常具有較高的集成度和較強的實時性，而嵌入式系統(tǒng)則更注重對外圍設(shè)備的支持和交互，通常會配備大量的通信接口和標(biāo)準(zhǔn)化接口。3、開發(fā)方式的區(qū)別：單片機通常需要編寫底層驅(qū)動程序和應(yīng)
