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小型臺(tái)式ALD(原子層沉積)工具專為簡(jiǎn)單的操作和安裝而設(shè)計(jì),而不
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AT-200M(熱原子層沉積系統(tǒng))
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粉末原子層沉積系統(tǒng)ALD
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該款A(yù)LD原子層沉積設(shè)備特別適用于科研用戶的小型臺(tái)式設(shè)備。它經(jīng)濟(jì)
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高真空電子?xùn)|蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)--EB700
高真空電子?xùn)|蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)--EB700真空室結(jié)構(gòu):U形前開(kāi)門真空室
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高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PLD450真空室結(jié)構(gòu):球形前開(kāi)門真
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高真空電子?xùn)|及熱阻薄膜沉積系統(tǒng)--DZS500
高真空電子?xùn)|及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)--DZS500真空室結(jié)構(gòu):U形前開(kāi)門
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高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PVD500真空室結(jié)構(gòu):方形前開(kāi)門真空室

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