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Table Top 4Plasmionique微波等離子MWPlasma MWPECVDPX 2874
GIGAbatch批量晶圓處理等離子系統PX 1950
VP-RS20等離子體刻蝕機PX 3905
森泰克刻蝕機Etchlab 200PX 1401
CGST3100全自動干法去膠機PX 1650
Plasmalab 133牛津儀器 RIE 半導體刻蝕機PX 7517
SPB5/plusRIE反應離子刻蝕機PX 3811
WINETCHCCP等離子刻蝕機PX 5005
TASLimage固體徑跡蝕刻測量系統PX 2583
PLASMA大氣常壓等離子處理機器PX 1969
FPTOR-RIE600W反應離子刻蝕機系統PX 3144
LT-400G過程臭氧分析儀半導體干法清洗設備專用PX 2215
Oxford RIE反應離子刻蝕機PlasmaPro 80PX 3097
RIE200/RIE200plus等離子刻蝕機PX 2553
MKS AX7690LAM-23 RPSMKS Revolution RPS AX7690 遠程等離子源PX 1576
離子污染測定儀PX 2083
PICO德國Diener等離子清洗機PX 2874
FEMTO德國Diener等離子清洗機PX 2874
Atto德國Diener等離子清洗機PX 2874
ZEPTO德國Diener等離子清洗機PX 2874
80 Plus條形等離子清潔系統PX 1950
PlasmaPen™大氣式等離子清潔系統PX 1950
SENTECH 集群系統等離子刻蝕集群系統PX 1950
PTP-300等離子清洗和加熱機PX 1950
SENTECH SI 500 CCPRIE等離子刻蝕系統PX 1950
SENTECH SI 591等離子刻蝕系統RIEPX 1950
SENTECH Etchlab 200 RIERIE等離子蝕刻系統PX 1950
SENTECH SI 500 C低溫ICP-RIE等離子體刻蝕系統PX 1950
UC100-SE紫外臭氧清洗機PX 1950
PT500等離子清洗機PX 1950
PlasmaPro 100 Polaris單晶圓刻蝕系統PX 1950
PlasmaPro 100 Cobra ICP電感耦合等離子體刻蝕PX 1950
EIS-1500離子束刻蝕機PX 1950
EIS-200ERP離子束刻蝕機PX 1950
Shale® C 系列8英寸電感耦合等離子體化學氣相沉積設備PX 1950
Haasrode® Avior® A電容耦合等離子體刻蝕(CCP)設備PX 1950
Pishow® D 系列8英寸電感耦合等離子體-深硅刻蝕設備PX 1950
Pishow® A 系列8英寸電感耦合等離子體刻蝕設備PX 1950
Kessel® Pishow® M8英寸金屬刻蝕設備PX 1950
Tebaank® Pishow® P8英寸硅刻蝕設備PX 1950
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森泰克刻蝕機Etchlab 200
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大氣常壓等離子處理機器
過程臭氧分析儀半導體干法清洗設備專用
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