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Polaris系列12英寸通用物理氣相沉積系統PX 1950
Polaris系列8英寸 通用物理氣相沉積系統PX 1950
eVictor Al PVD鋁物理氣相沉積系統PX 1950
HORIC L200 系列臥式 LPCVD 氣相沉積系統PX 1950
Scaler HK430熱原子層沉積系統PX 1950
EPEE系列等離子化學氣相沉積系統PX 1950
eVictor系列8英寸通用物理氣相沉積系統PX 1950
MARS iCE120多片碳化硅外延系統PX 1950
MARS iCE115碳化硅外延系統PX 1950
Satur系列多片式MOCVD系統PX 1950
Hesper I E430R12英寸單片減壓硅外延系統PX 1950
Hesper E230A12英寸單片常壓硅外延系統PX 1950
Hesper Ⅱ E630R plus12英寸減壓選擇性外延系統PX 1950
Esther/Eris 系列8英寸單片常壓/減壓硅外延系統PX 1950
SES系列8英寸多片硅外延系統PX 1950
customized高真空互聯物理氣相薄膜沉積系統PX 1950
customized低壓化學氣相沉積系統LPCVDPX 1950
customized化學氣相沉積MOCVDPX 1950
customized等離子增強化學氣相沉積PECVDPX 1950
工業半導體微納加工二維材料實驗室設備PX 1401
PE鉑金埃爾默ICPMSPX 1401
氣相沉積光刻機刻蝕機磁控濺射PX 1401
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4/6英寸輻射式樣品臺系統PX 1401
插拔式加熱器沉積系統PX 1401
脈沖激光沉積樣品臺PX 1401
脈沖激光沉積靶臺PX 1401
脈沖激光沉積系統激光光路PX 1401
單腔體脈沖激光沉積系統PX 1401
雙腔體脈沖激光沉積系統PX 1401
電漿原子層沉積設備PX 1401
原子層沉積設備2PX 1401
原子層沉積系統PX 1401
批量式電漿輔助氣相沉積設備PX 1401
FPD-PECVD 電漿輔助化學氣相沉積PX 1401
感應耦合電漿化學氣相沉積設備PX 1401
低真空化學氣相沉積設備PX 1401
電漿輔助式化學氣相沉積設備PX 1401
化學氣相沉積PX 1401
PECVD等離子沉積設備DEPOLAB 200PX 1401
薄膜生長設備
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ALD原子層沉積緊湊、經濟型
高真空電子東蒸發薄膜沉積系統--EB700
高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統--PLD450
高真空電子東及熱阻薄膜沉積系統--DZS500
高真空磁控濺射薄膜沉積系統--PVD500
原子層沉積系統
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日本ULVAC愛發科半導體化學氣相沉積設備
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