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NEXUS IBD-LDD離子束沉積設備PX 1950
MBE 8000分子束外延薄膜沉積系統PX 1950
AD-230LP等離子體沉積ALDPX 1950
SENTECH ALAL實時監控器PX 1950
SENTECH SIPAR ICPICP沉積系統PX 1950
SENTECH Depolab 200開蓋等離子體沉積系統PECVDPX 1950
粉末原子層沉積系統ALDPX 1550
埃沃維克EvoVac 物理氣相沉積平臺PX 1950
EC400高真空蒸發鍍膜設備PX 1950
Amod物理氣相沉積平臺PX 1950
ESC-101新型離子槍PX 1950
PlasmaPro 1000等離子增強化學氣相沉積PECVDPX 1950
PlasmaPro 80 PECVD等離子增強化學氣相沉積PECVDPX 1950
PlasmaPro 800 PECVD等離子增強化學氣相沉積PECVDPX 1950
PlasmaPro 100 PECVD等離子增強化學氣相沉積PECVDPX 1950
NEXDEPAE物理氣相沉積平臺PX 1950
PlasmaPro 100 ICPCVD電感耦合等離子體化學氣相沉積ICPCVDPX 1950
COVAP科瓦普物理氣相沉積平臺PX 1950
MS450多靶磁控濺射鍍膜系統PX 1950
MBE 6000Riber分子束外延系統PX 1950
Beneq C2R--空間原子層沉積ALDPX 1950
MBE 49分子束外延薄膜沉積系統MBEPX 1950
MBE 412RIBER分子束外延4 英寸中試生產系統PX 1950
Compact 21MBE分子束外延系統PX 1950
Genesis ALD原子層沉積儀器ALDPX 1950
Seehund® A 系列氣相分解金屬沾污收集(VPD)設備PX 1950
Shale® A 系列8英寸等離子體增強化學氣相沉積設備PX 1950
捷尼賽思原子層沉積PX 1950
貝內克 C2R超快速、高精度空間原子層沉積鍍膜PX 1950
TFS 500原子層沉積研究設備PX 1950
TFS 200原子層沉積研究設備PX 1950
Beneq 轉換原子層沉積PX 1950
Beneq ProdigyALDPX 1950
Beneq Transform® 300ALDPX 1950
G10-碳化硅碳化硅沉積系統PX 1950
CCS系統化合物半導體沉積系統PX 1950
AIX G5+ C化合物半導體沉積系統PX 1950
AIX G5 WW C化合物半導體沉積系統PX 1950
AIX 2800G4-TM化合物半導體沉積系統PX 1950
MOCVD金屬有機源氣相沉積系統PX 1950
薄膜生長設備
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熱原子層沉積
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ALD原子層沉積緊湊、經濟型
高真空電子東蒸發薄膜沉積系統--EB700
高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統--PLD450
高真空電子東及熱阻薄膜沉積系統--DZS500
高真空磁控濺射薄膜沉積系統--PVD500
原子層沉積系統
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日本ULVAC愛發科半導體化學氣相沉積設備
等離子增加化學氣相沉積CVD系統
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