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線列式PECVD高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積系統PX 1950
Cluster PECVD高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積系統PX 1950
PECVD高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積系統PX 1950
PECVD高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積PX 1950
EB700高真空電子束蒸發薄膜沉積系統PX 1950
ALD原子層沉積緊湊、經濟型PX 1550
EB900高真空電子束蒸發薄膜沉積系統PX 1950
DZS500高真空電子束及熱阻蒸發薄膜沉積系統PX 1950
SMART蒸發薄膜沉積系統PX 1950
DZ450高真空熱阻蒸發薄膜沉積系統PX 1950
DZ350高真空有機及熱阻蒸發薄膜沉積系統PX 1950
LMBE450超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統PX 1950
JGP560高真空磁控濺射薄膜沉積系統PX 1950
JGP450高真空磁控濺射薄膜沉積系統PX 1950
PC450高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統PX 1950
TRP450高真空磁控濺射薄膜沉積系統PX 1950
AT-200M桌面原子層沉積系統ALDPX 1550
線列式磁控濺射薄膜沉積系統PX 1950
SMART磁控濺射薄膜沉積系統PX 1950
PVD500高真空磁控濺射薄膜沉積系統PX 1950
AT 200M臺式原子層沉積系統-可放入手套箱PX 1550
PVD400高真空磁控濺射薄膜沉積系統PX 1950
SENTECH SILAYOPEARD系統PX 1950
SI PEALDPEALD 系統PX 1950
SI 500 DICPECVD 系統PX 1950
PlasmaPro 100 Nano等離子增強化學氣相沉積PX 1950
AT-610原子層沉積系統PX 2874
AT-410原子層沉積系統PX 2874
FlexAL原子層沉積(ALD)PX 1950
PlasmaPro 80ICPCVDPX 1950
PD-100ST等離子體增強CVD系統PX 1950
PD-330STC等離子體增強CVD系統PX 1950
PD-270STLC等離子體增強CVD系統PX 1950
PD-200STL等離子體增強型CVD系統PX 1950
PD-220N化學氣相沉積等離子體CVD系統PX 1950
PD-3800L化學氣相沉積系統PX 1950
PD-220NL化學氣相沉積 (PECVD) 系統PX 1950
AL-1無針孔薄膜沉積設備PX 1950
PD-2201LC化學氣相沉積 (PECVD) 設備PX 1950
Orion Proxima高密度等離子體化學氣相沉積系統PX 1950
薄膜生長設備
工藝測量和檢測設備
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熱原子層沉積
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ALD原子層沉積緊湊、經濟型
高真空電子東蒸發薄膜沉積系統--EB700
高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統--PLD450
高真空電子東及熱阻薄膜沉積系統--DZS500
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日本ULVAC愛發科半導體化學氣相沉積設備
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